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2 x 300 mm Crius Cluster (Aixtron AG)


  • MOVPE (metal organic vapour phase epitaxy) / CVD (chemical vapour deposition) cluster tool
  • wafer size: up to 12" (300 mm)
  • CVD machine: Si/Ge/C-epitaxy
  • MOVPE machine: III/V-epitaxy
  • Brooks wafer handler for loading and transfer of substrates
  • Epi Curve TT (LayTec)

Zuletzt aktualisiert: 24.02.2012 · kimmeli

 
 
 
Schriftzug Seitenfuß (STRL)

Struktur- & Technologieforschungslabor (STRL), Hans-Meerwein-Straße, 35032 Marburg
Tel. 06421 28-25694, Fax 06421 28-28935, E-Mail: elke.vaupel@staff.uni-marburg.de

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