BEGIN:VCALENDAR
VERSION:2.0
PRODID:-//Plone.org//NONSGML plone.app.event//EN
X-WR-TIMEZONE:Europe/Berlin
BEGIN:VEVENT
SUMMARY:CO2 Laserquelle für die EUV Lithografie
DTSTART;TZID=Europe/Berlin:20170626T161500
DTSTAMP:20260609T172434Z
UID:4a83d79bd2f64400ac2be5f8bd50da88@www.uni-marburg.de
CREATED:20200406T064422Z
DESCRIPTION:https://www.uni-marburg.de/de/grk1782/aktuelles/termine/termin
 e-2017/co2-laserquelle-fuer-die-euv-lithografie\nDr. Ajanth Velauthapillai
 \, Program Manager Lasersytems\, TRUMPF Lasersystems GmbH
LAST-MODIFIED:20200406T070343Z
LOCATION:Fachbereich Physik\, Renthof 6\, Seminarraum 00014
URL:https://www.uni-marburg.de/de/grk1782/aktuelles/termine/termine-2017/c
 o2-laserquelle-fuer-die-euv-lithografie
END:VEVENT
BEGIN:VTIMEZONE
TZID:Europe/Berlin
X-LIC-LOCATION:Europe/Berlin
BEGIN:DAYLIGHT
DTSTART:20170326T030000
TZNAME:CEST
TZOFFSETFROM:+0100
TZOFFSETTO:+0200
END:DAYLIGHT
END:VTIMEZONE
END:VCALENDAR