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Gerätezentrum Halbleiterepitaxie

Epitaxie im STRL
Foto: HA Hessen Agentur GmbH – Jan Michael Hosan
Ein Mitarbeiter arbeitet am MOVPE Reaktor

Die Benutzungsordnung für das Gerätezentrum Halbleiterepitaxie sowie Hinweise zu Nutzungskosten finden Sie unter folgenden Links:

Benutzungsordnung (PDF)

Hinweise zu Gerätenutzungskosten und zu Gerätezentren (PDF)

Anlagen zur metallorganischen Gasphasenepitaxie (MOCVD) bzw. atomlagengenauen Abscheidung (ALD)

Gerät Spezielle Merkmale Standort person
(Details s.u.)
2 x 300mm Crius Cluster
(Aixtron AG)
III/V and SiGeC Epitaxie:
Wafer-Größe: bis 12" (300 mm), CVD-Apparatur: Si/Ge/C-Epitaxie, MOVPE-Apparatur: III/V-Epitaxie, Brooks Wafer-Handler zum Laden und Transfer von Substraten, Epi Curve TT (LayTec) 
LB, mar.quest SR, KV
2 x 2" III/V-MOVPE-systems (Aixtron AG)  Zwei AIX 200-Apparaturen verbunden mit N2 Glove-box:
Ausgerüstet mit EpiRAS (Laytec), Massen-Spektrometer (Zeiss), Materialien: SiGeC, III/V und 2D (z.B. Post-Übergangsmetall-Chalcogenide) 
LB, mar.quest SR, KV
OXTRON Home-built (MOVPE/CVD)-Apparatur:
2 heiße Quellen für Niedrig-Dampfsdruck-Quellen
LB, mar.quest SR, KV

Charakterisierung von Halbleitern

Gerät Spezielle Merkmale Standort person
(Details s.u.)
Atomic force microscopy (AFM)  LB, mar.quest
X-ray diffraction (XRD) LB, mar.quest
Photoluminescence (PL)  LB, mar.quest
Raman Spectroscopy  LB, mar.quest
ECV measurements  LB, mar.quest
Magnetotransport/Hall  LB, mar.quest

Kontakte

Name Kontakt
C. Becker
CB
Tel.: 06421 / 28-22260
E-Mail: celina.becker@physik
Dr. A. Beyer
AB
Tel.: 06421 / 28-25704
E-Mail: andreas.beyer@physik
M. Hellwig
MH
Tel.: 06421 / 28-23458
E-Mail: michael.hellwig@staff
Stefan Reinhard
SR
Tel.: 06421 / 28-25691
E-Mail: stefan.reinhard@physik
Prof. Dr. K. Volz
KV
Tel.: 06421 / 28-22297
E-Mail: kerstin.volz@physik

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