25.08.2010
Großgerät für Tiefenprofilanalysen im Nanometerbereich am FB Chemie eingeweiht
Im Fachbereich Chemie der Philipps-Universität Marburg wurde im August 2010 eine TOF-SIMS (time-of-flight secondary ion mass spectrometry) Anlage in Betrieb genommen.
Im Fachbereich Chemie der Philipps-Universität Marburg wurde im August 2010 eine TOF-SIMS (time-of-flight secondary ion mass spectrometry) Anlage in Betrieb genommen. Diese Anlage gestattet es, chemische Analysen von grenzflächennahen Bereichen von Materialien durchzuführen. Die Stärke der TOF-SIMS Methode liegt zum einen in der extrem hohen Nachweisempfindlichkeit für Spurenelemente in einer Materialprobe, zum anderen speziell in der Möglichkeit die Konzentration solcher chemischen Komponenten als Funktion des Abstandes von der Oberfläche zu bestimmen. Dies konstituiert eine sogenannte Tiefenprofilanalyse. Die Tiefenauflösung der hier angeschafften Anlage liegt im Bereich von 1nm bis 2nm. Derartige Tiefenprofilanalysen sind vor allem im Bereich der Physikalischen Chemie und der Materialwissenschaften von großer Bedeutung, jedoch auch in diversen anderen Teilgebieten der Chemie.
Ein Beispiel einer geplanten Anwendung liegt in der Tiefenprofilanalyse elektrisch vorgepolter ionenleitender Gläser, ein anderes in der Tiefenprofilanalyse derartiger Gläser nach Ionenimplantation.
Die Anlage wurde über einen Großgeräteantrag durch die DFG finanziert. Hauptantragsteller waren Prof. Bernhard Roling und Prof. Karl-Michael Weitzel .
